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二硅化鉬元件用于高溫爐時(shí)氧化粉硅圖層的生成和注意事項(xiàng)

作者:國(guó)炬電爐炬星窯爐 發(fā)布時(shí)間:2015-06-01 瀏覽次數(shù):4408

1. 本高溫電爐安裝有二硅化鉬元件,因此易出現(xiàn)氧化粉硅圖層化現(xiàn)象。

2. 可看到氧化粉硅圖層是一種生長(zhǎng)在元件表面的淡黃色晶體。

3. 當(dāng)元件表面溫度大約為 450°C 時(shí)會(huì)出現(xiàn)這種現(xiàn)象,因空氣與元件化合物中的鉬發(fā)生氧化所致。在正常操作條件下(超過 800°C),氧化粉硅圖層化現(xiàn)象不是問題,經(jīng)常可看見自然出現(xiàn)在元件端子上。

4.  600°C 以下的溫度條件下長(zhǎng)時(shí)間運(yùn)轉(zhuǎn)高溫電爐子會(huì)導(dǎo)致元件表面上出現(xiàn)氧化粉硅圖層,并最終損壞元件。

5. 以一種緩慢變化速率加熱或者短時(shí)間保持 600°C 以下溫度不會(huì)產(chǎn)生問題,但前提條件是高溫電爐子在 1400°C 以上的條件下以有規(guī)律的間隔進(jìn)行運(yùn)轉(zhuǎn),從而重新調(diào)節(jié)元件表面。

6. 必須按照良好的健康與安全方法去除出現(xiàn)在元件端子上的大量氧化粉硅圖層。

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